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Y1HGold Chemically Competent Cell

产品货号:CC96402

产品规格:10 ×100ul/100×100ul

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标签:感受态 
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产品简介
Y1HGold 菌株是 Clontech 公司开发的 GAL4-AbA 酵母单杂系统用菌株,MATα 型,可直接转化质
粒进行筛库试验。Transformation marker 为:ura3leu2;报告基因为:AbArY1HGold-GAL4-
AbA 酵母单杂系统需要两种质粒配套使用:pAbAi pGADT7。质粒 pAbAi 的筛选标志为 URA
用于表达 pBait-AbAi construct (1~3 bait DNA 序列重复串联后克隆到 pAbAi );质粒 pGADT7
的筛选标志为 LEU,用于表达 AD(GAL4 C 768 ~ 881 位氨基酸)与目标蛋白 (Prey)的融合蛋白。
GAL4-AbA 酵母单杂系统原理:Aureobasidin A (AbA)是一 种环酯肽抗生素,在低浓度 (0.1-0.2
µg/ml)下即可对酵母产生毒性。基因组中整合了 pBait-AbAi 的酵母菌株 (Bait-Reporter Yeast Strains)
当猎物蛋白 (Prey)结合到诱饵序列 (Bait DNA)上,GAL4 AD 就会激活 AbAr 的表达,从而能够在含
有抗生素 AbA 的培养基上生长。AbAr 与营养缺陷报告基因相比具有更低背景的优点,可以降低酵
母单杂假阳性发生的概率。Y1HGold 感受态细胞经特殊工艺制作,-80℃可保存三个月,pGADT7
质 粒检测转化效率>104 cfu/μg DNA
产品组分
名称
规格
储存方式
Y1HGold Competent Cell
100 μl /
-80℃3 个月)
pGADT7 (control vector, 10 ng/μl)
10 μl
-80℃12 个月)
Carrier DNA (10 μg/μl)
100 μl
-20℃12 个月)
PEG/LiAC
5 ml
4℃12 个月)
基因型MATα, ura3-52, his3-200, ade2-101, trp1-901, leu2-3, 112, gal4Δ, gal80Δ, met-, MEL1
使用方法
操作方法
1. 100 µl 冰上融化的 Y1HGold 感受态细胞,依次加入预冷的目的质粒 2-5 µgCarrier DNA(95-
100℃5min,快速冰浴,重复一次) 10 µlPEG/LiAc 500 µl 并吸打几次混匀,30℃水浴 30 min
(15 min 时翻转 6-8 次 混匀)
2. 42℃水浴 15 min (7.5 min 时翻转 6 - 8 次混匀)
3. 5000 rpm 离心 40 s 弃上清,ddH2O 400 µl 重悬,离心 30 s 弃上清。
4. ddH2O 50 µl 重悬,涂板,29℃培养 48 - 96 h
培养基配制
YPDA (1L): Tryptone 20 g Yeast extract 10 g 0.2% adenine 15 ml 补水到 950 ml,用盐酸调
pH 6.5Agar 20 g(for plates only) 121℃15 min 高压灭菌; 待培养基温度降到 55℃时,加入
已过滤的 40% 葡萄糖 50 ml
SD medium (1L): Yeast Nitrogen base 6.7 g ,葡萄糖 20 g Dropout 适量(按说明书) 补水到 1L
pH 5.8Agar 20 g(for plates only) 121℃15 min 高压灭菌。
0.2% adenine (1L): Adenine 2 g,,补水到 1L;溶解后高压灭菌或 0.22 µm 滤膜过滤除菌。
注意事项
1. 感受态细胞最好在冰上融化。
2. 转化高浓度的质粒可相应减少最终用于涂板的菌量。
3. 同时转化 2 - 3 种质粒时可增加质粒的用量。
4. Y1HGold 酵母菌株对高温敏感,最适生长温度为 27 - 30℃;高于 31℃,生长速度和转化效率呈
指数下降。
5. 菌落变粉不是污染,是酵母细胞生长中一个常见现象。当细胞在平板培养几天后,平板上的
Adenine 被酵母消耗完毕,酵母试图通过自身代谢途径合成 Adenine 以供利用,然而,有些菌株的
ADE2 基因被破坏,Adenine 合成途径受阻;又由于其 ADE4,5,6,7,8 基因均正常,所以造成中间产
P-ribosylamino imidazole (AIR) 在细胞中积累而使菌落变为粉红色。
6. 酵母在缺陷培养基中生长速度比 YPDA 培养基慢,培养基中缺陷成分越多,生长越慢,以转化涂
板为例:涂 YPDA 平板 29℃48 h 培养可见直径 1 mm 克隆;涂 SD 单缺平板 29℃48 - 60 h 培养
可见直径 1 mm 克隆,涂 SD 双缺平板 29℃60 - 80 h 培养可见直径 1 mm 克隆,涂 SD 三缺或四缺
平板平板 29℃80 - 90h 培养可见直径 1 mm 克隆

原创作者:上海语纯生物科技有限公司

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